化学機械研磨機 CP-1280
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LSTDは、中国の信頼できる化学機械研磨機のメーカーです。Si、Ge、GaAs、InP、GaN、SiCなどの半導体ウェーハの精密な化学機械研磨の需要を満たすように設計されています。マシンは動的安定性とカスタマイズされたアプリケーションの両方を備えています。 LSTD は 10 年以上にわたって半導体ウェーハの研磨に注力してきました。世界中の複数の半導体メーカーに信頼性の高い半導体ウェーハ研磨ソリューションを提供します。専門の設計チーム、プロセス研究開発チーム、機械製造チーム、および資格のある必要な施設が、半導体装置の納品の成功を保証します。



化学機械研磨機の種類
ベーシックタイプ--- ベーシックタイプの機械は、プレッシャープレートが研磨定盤の回転に追従します。
基本タイプはラビリンスシングルパス研磨プレート冷却構造を採用し、効果的に研磨を確保します。
熱放散の均一性と研磨プロセス中のプレート形状の維持により、ハードウェアの観点から研磨精度を確保します。 LSTD社製の専用設計・大型低フリクションシリンダの採用により、加工強度と加工精度を確保しています。

CD タイプ --- CD タイプのマシンはセンターガイドによって共同駆動されます。
プロセス中に 4 つのプレートを駆動して回転させる、プレッシャー プレートのセンター ドリブン ローラーのセットを追加します。この構造により、エアシリンダーの特性の違いや各ヘッドの研磨摩擦の違いによって生じるプレッシャープレートの速度差をなくすことができ、各ヘッドの研磨結果の一貫性をより確実に保つことができます。また、研磨プロセスはより柔軟です。

IDP タイプ--- IDP タイプのマシンのプレッシャー プレートは、プレッシャー プレート アセンブリ上のモーターによって個別に駆動されます。
大型の圧接機では、内外のガイドローラー装置を追加することでセラミックプレートの位置決めとステーション切り替えを実現し、ワンステーションでのロードとアンロードを実現します。マニピュレータを一体化することで複数台の機械を接続して自動生産ラインを構築することも可能です。

研磨剤
LSTDでは、研磨粉、研磨スラリー、研磨パッド、研磨プレートなど、さまざまな種類の消耗品を製造しています。消耗品も白色アルミ、緑色炭化ケイ素、ダイヤモンドなど豊富に取り揃えておりますので、チップの種類に合わせた最適な研磨剤を簡単に入手できます。

化学機械研磨機の用途

特徴と利点
● 焦点と専門知識
● 対象市場をより広範囲にカバー
● 顧客に近づく
●充実の製品ラインアップ
● 積極的なマーケティング
● 世界中のサプライヤーとの成熟した協力モデル
● 異業種のノウハウを統合
1.カスタマイズされた製品は、顧客のニーズに応じてカスタマイズされ、顧客のニーズを完全に満たします。
2. Siemens PLC およびタッチスクリーン (4.3 インチ)、TECO モーター、高品質の付属品により、製品の品質が保証されます。
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